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發布時間: 2016 - 03 - 07
RCA濕法腐蝕清洗機設備——華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設備是國內最早致力于集成電路濕法設備的研制單位,多年來與眾多的集成電路生產企業密切合作,研制開發出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設備設 備 名  稱南通華林科納CSE-RCA濕法腐蝕清洗機使 用 對 象硅晶片2-12inch適 用 領  域半導體、太陽能、液晶、MEMS等設 備 用 途硅晶片化學腐蝕和清洗的設備主體構造特點1. 設備包括:設備主體、電氣控制部分、化學工藝槽、純水清洗槽等;并提供與廠務供電、供氣、供水、排廢水、排氣系統配套的接口等。2.設備為半敞開式,主體使用進口WPP15和10mm厚板材,結構設計充分考慮長期工作在酸腐蝕環境,堅固耐用,雙層防漏,機臺底盤采用德國產瓷白PP板,熱焊接而成,可長期工作在酸堿腐蝕環境中3.主體:設備為半敞開式,主體使用進口WPP15和10mm厚板材,結構設計充分考慮長期工作在酸腐蝕環境,堅固耐用,雙層防漏,機臺底盤采用德國產瓷白PP板,熱焊接而成,可長期工作在酸堿腐蝕環境中;4.骨 架:鋼骨架+PP德國勞施領板組合而成,防止外殼銹蝕。5.儲物區:位于工作臺面左側,約280mm寬,儲物區地板有漏液孔和底部支撐;6.安全門:前側下開透明安全門,腳踏控制;7.工藝槽:模組化設計,腐蝕槽、純水沖洗槽放置在一個統一的承漏底盤中。底盤采用滿焊接工藝加工而成,杜絕機臺的滲漏危險;8.管路系統:位于設備下部,所有工藝槽、管路、閥門部分均有清晰的標簽注明;藥液管路采用PFA管,純水管路采用白色NPP噴淋管,化學腐蝕槽廢液、沖洗廢水通過專用管道排放;9.電氣保護:電器控制、氣路控制和工藝槽控制部份在機臺頂部電控區,電氣元件有充分的防護以免酸霧腐蝕以保障設備性能運行穩定可靠;所有可能與酸霧接觸的...
發布時間: 2017 - 12 - 19
片盒清洗機-華林科納CSE 設備概況:主要功能:本設備主要手動/自動搬運方式,通過對片盒化學液體浸泡、沖洗、漂洗、鼓泡、快排等方式進行處理,從而達到一個用戶要求的效果。設備名稱:片盒清洗機設備型號:CSE-SC-N259整機尺寸(參考):約1700mm(L)×1400mm(W)×2000mm(H);(該設備非標定制)操作形式:手動 設備組成該設備主要由清洗部分、抽風系統及電控部分組成 設備描述此裝置是一個手動的處理設備;設備前上方有各閥門、工藝流程的控制按鈕、指示燈、觸摸屏(PROFACE/OMRON)、音樂盒等,操作方便;主體材料:德國進口 10mmPP 板,優質不銹鋼骨架,外包 3mmPP 板防腐;臺面板為德國 10mm PP 板;DIW 管路及構件采用日本進口 clean-PVC 管材,需滿足 18MW去離子水水質要求;采用國際標準生產加工,焊接組裝均在萬級凈化間內完成排風:位于機臺后上部工作照明:上方防酸照明安全考慮:1. 設有 EMO(急停裝置)2. 強電弱點隔離3. 所有電磁閥均高于工作槽體工作液面4. 設備排風口加負壓檢測表5. 設備三層防漏 漏盤傾斜 漏液報警 設備整體置于防漏托盤內 更多的花籃和片盒清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.zgcxlmw.com),現在熱線咨詢400-8768-096 18913575037可立即獲取免費的片盒清洗機解決方案。
發布時間: 2017 - 12 - 06
自動供液系統(CDS)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-CDS自動供液系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-CDS自動供液系統設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統設備規格 1. 系統主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統;2. 操作模式: CDS 系統皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執行,兼具自動化與親和力。在自動模式情形...
發布時間: 2016 - 06 - 13
設備名稱:晶棒腐蝕機---CSE產品描述:        ●此設備自動化程度高,腐蝕清洗裝置主要由水平通過式腐蝕清洗主體(槽體部分/管路部分等),移動機械傳送裝置,CDS系統,抽風系統,電控及操作臺等部分組成;         ●進口優質透明PVC活動門(對開/推拉式),保證設備外部環境符合勞動保護的相關標準,以保證設備操作人員及其周圍工作人員的身體健康;         ●機械臂定位精度高;         ●整體設備腐蝕漂洗能力強,性能穩定,安全可靠;         ●設備成本合理,自動化程度高,使用成本低;技術先進,結構合理,適宜生產線上大批次操作.         ●非標設備,根據客戶要求具體定制,歡迎詳細咨詢!更多半導體清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.hlcas.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發布時間: 2016 - 03 - 14
2設備構成及詳細技術說明2.1工藝說明 2.2.臺面結構圖如下      3.設備說明3.1 排風系統?●排風裝置(排風壓力、風量根據實際情況或客戶要求設計)將設備內揮發的有毒氣體抽到車間排風管道或戶外(室外排放遵守國家環保要求),避免擴散到室內;?●排風通道內設有風量導流板,從而使排風效果達到最佳;?●本體頂部后方自帶強力抽風1個風道口裝置(每個藥劑槽對應一個),排風口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體;?●排風口處設有手動調節風門,操作人員可根據情況及時調節排風量;3.2設備防護門:?●本體前方安裝有防護隔離門,隔離門采用透明PVC板制成,前門可以輕松開合,在清洗過程中,隔離門關閉,以盡量改善工作環境并減小對人體的傷害. ?●形式:上下推拉門。3.3 給排水/廢液系統?●給水管路為一路去離子水;?●給排水排廢接頭均為活性連接;?●排放方式均采用氣動控制的方式來保證安全3.4 電氣控制系統?●采用優質PLC可編程控制器控制全操作過程, ?●人機界面為觸摸屏,接口中有手動操作、故障報警、安全保護等功能,各工作位過程完成提前提示報警,觸摸屏選用優質產品;?●觸摸屏加鎖定,以防非授權人員修改或設定參數;?●所有電控部分需獨立封閉,帶抽風系統,獨立的配電柜?●設備照明:設備其它部位--低電壓燈,根據工作需要可控照明;?●設備整體采取人性化設計,方便操作;并裝有漏電保護和聲光報警提示裝置,保證性能安全可靠;電控部分導線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導線,電氣控制部分內部還通有壓縮空氣保護,可防水耐腐蝕;?●設備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進行保護,免受腐蝕;?●設備具有良好的接地裝置;
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---華林科納CSE 小編隨著超大規模集成電路的發展、集成度的不斷提高、線寬的不斷減小,對硅片表面的潔凈度及表面態的要求也越來越高。要得到高質量的半導體器件,僅僅除去硅片表面的沾污已不再是最終的要求。在清洗過程中造成的表面化學態、氧化膜厚度、表面粗糙度等已成為同樣重要的參數。目前,通常應用的清洗方法是濕式化學清洗法,蘇州華林科納半導體設備技術有限公司(CSE)多年經驗專注于半導體濕式清洗工藝解決方案。即利用有機溶劑、堿性溶液、酸性溶液、表面活性劑等化學試劑,配合兆聲、超聲、加熱等物理措施,使有機物、顆粒、金屬等沾污脫離硅片表面,然后用大量的去離子水沖洗,獲得潔凈的硅片表面的清洗方法。沉積在硅片表面的粒子、金屬、有機物、濕氣分子和自然氧化膜的一種或幾種而形成了硅片表面沾污;因為有機物會遮蓋部分硅片表面,使氧化層和與之相關的沾污難以去除。 在濕式清洗工藝中,硅片表面都有一層化學氧化膜,這層氧化膜是主要的沾污源。如果沒有這層氧化膜可大大降低金屬、有機物等沾污。可用HF清洗或簡化常規工藝后最后用HF清洗,可通過降低與周圍環境的接觸來獲得一個理想的鈍化表面,減少顆粒吸附在敏感的疏水性表面上。這就對清洗工藝設備提出了多方面的要求。目前華林科納半導體設備公司(CSE)的清洗設備,則是將所有的清洗工藝步驟(清洗和干燥)結合在一個工藝槽中,大大地減少了硅片與空氣的接觸。將HF作為最后一道清...
發布時間: 2016 - 06 - 23
瀏覽次數:116
華林科納針對所有客戶提供專業、周到、全面的售后服務,銷售人員不僅經常與客戶電話聯系,還會不定期上門回訪客戶。公司對每個銷售人員都有規定,每成交一個客戶都要定期的聯系回訪,以下是華林科納銷售人員近期對上海復旦大學的回訪情況。      在回訪過程中,回訪人員必須做到以下兩點:第一:將清洗設備經常碰到的一些問題以及注意事項都提前告知客戶,并且講解處理方法,避免客戶在清洗產品的過程中遇到類似的情況不知如何處理,避免客戶遇到問題時手忙腳亂,同時能減小對工作進度的影響,也可以確保設備的穩定性。  第二:回訪客戶時,回訪人員在生產現場,可以仔細檢查設備的現場運行情況,同時可以根據產品的清洗效果,分析設備是否運行良好,若清洗效果不達標,則可以現場分析原因,并制定合理的解決方案交予客戶。通過現場回訪,華林科納可以真正地幫客戶解決實際問題,保證了售后服務的效率和質量,華林科納這樣的售后服務得到了所有客戶的一致認可。有些我們在生產現場無法解決的問題,我們回訪的業務人員能第一時間的把這些問題詳細記錄下來帶回公司認真研究及派專業的技術人員處理解決。
發布時間: 2013 - 11 - 29
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“水桶理論”已是老生常談。企業要想做好、做強,必須從產品設計、價格政策、渠道建設、品牌培植、技術開發、財務監控、隊伍培育、文化理念、戰略定位等各方面一一做到位才行。任何一個環節太薄弱都有可能導致企業的最終失敗。企業核心競爭力的大小往往取決于企業要素中最薄弱的環節。 在中國進入市場經濟的最初階段,市場還非常幼稚,競爭對手都非常幼嫩,不少企業借助某一個環節的運作特色,攻城掠地,不斷取得驕人的戰績,這就使得不少企業和企業經營者產生一種錯覺,認為某一環節的優勢可以控制整個企業的命運。也就是說,很多人把企業經營管理中的必要條件看成是企業成功的充分條件了。 把必須做好的一部分當成整個經營管理系統的全部,勢必造成其中諸多環節被忽視、被省略,至少很多重要環節的方方面面做不細、做不透。這是指導思想上的錯誤造成的細節差距。 比爾·蓋茨常常說,微軟距離破產永遠只有18個月。從企業需要強調和重視管理細節的角度,我覺得企業稍大一點就存在此類風險。韓國的大宇700億美元不能說不大,但說倒閉也就倒閉了。因為企業大,所以小事沒有人做;因為事情不大,所以小事做不透。我愿意把工作中小事的失誤比作一只有危害的老鼠,老鼠多了,破壞力巨大。中國的老鼠數量據說是人口的3倍,1990年的數據:吃掉的糧食30億公斤,咬毀300萬畝森林和3億畝草原,咬傷至少10萬人;在東海讓海軍的艦載導彈發...
發布時間: 2013 - 11 - 29
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華林科納FPD設備項目負責人—李豐博士表示,華林科納已經具備了FPD設備與工藝整線配套能力,并與國內某知名企業簽定戰略合作協議。近兩年,項目組在平板顯示行業光電方面進行了顯示方案、光電控制、光電測量、光學鍍膜、光學膠合、器件產品、工藝工裝、工程試驗等產業化研究,掌握了其核心技術,并取得多項相關專利,其中包括大尺寸LED背光模組和新型彩色濾光片,這兩個器件模組是液晶顯示面板部件及材料成本的60%左右。華林科納愿做FPD顯示設備國產化的領路人,不斷創新,積極進取,為客戶提供一流的設備,先進的工藝和完善的服務。
發布時間: 2013 - 11 - 29
瀏覽次數:235
蘇州華林科納半導體技術設備有限公司(簡稱CSE),坐落于蘇州工業園區,公司主要從事半導體、平板顯示、太陽能光伏領域濕法制程設備的研發、生產與銷售,產品性能居國際先進水平。公司以打造擁有獨立自主知識產權的民族高科技企業為已任,以創建國際一流企業為愿景。現擁有南通研發生產制造基地及待建二期15300多平米制造基地。CSE擁有10多位技術研發人員、20多名機械設計人員以及10余名售后人員組成的高素質專業團隊。作為國內高端濕法制程設備供應商,我們嚴格按照國際質量管理體系標準進行全員、全方位、全過程的運作,并于2008年通過了ISO9001:2000質量體系認證。CSE注重持續創新和技術改進,目前已成功申請十幾項國家科研專利。作為一家快速崛起的電子設備制造商,CSE公司依托本地化的制造基礎和便捷服務、國際化的經營理念和人才團隊、先進的工藝試驗條件和暢通的零部件供應渠道,使CSE核心競爭力不斷加強。
發布時間: 2013 - 11 - 29
瀏覽次數:238
—來自華林科納 網絡部刻蝕的目的是把經曝光、顯影后光刻膠微圖形中下層材料的裸露部分去掉,即在下層材料上重現與光刻膠相同的圖形。刻蝕方法分為:干法刻蝕和濕法刻蝕,干法刻蝕是以等離子體進行薄膜刻蝕的技術,一般是借助等離子體中產生的粒子轟擊刻蝕區,它是各向異性的刻蝕技術,即在被刻蝕的區域內,各個方向上的刻蝕速度不同,通常Si3N4、多晶硅、金屬以及合金材料采用干法刻蝕技術;濕法刻蝕是將被刻蝕材料浸泡在腐蝕液內進行腐蝕的技術,這是各向同性的刻蝕方法,利用化學反應過程去除待刻蝕區域的薄膜材料,通常SiO2采用濕法刻蝕技術,有時金屬鋁也采用濕法刻蝕技術,國內的蘇州華林科納在濕法這塊做得比較好。下面分別介紹各種薄膜的腐蝕方法流程:二氧化硅腐蝕:在二氧化硅硅片腐蝕機中進行,現在國內該設備(腐蝕機)做的比較好的是蘇州華林科納,它通過與國際上知名公司的廣泛合作,目前已形成濕法清洗系統 刻蝕系統CDS系統 尾氣處理系統的四大系列數十種型號的產品,腐蝕液是由HF、NH4F、與H2O按一定比例配成的緩沖溶液。腐蝕溫度一定時,腐蝕速率取決于腐蝕液的配比和SiO2摻雜情況。摻磷濃度越高,腐蝕越快,摻硼則相反。SiO2腐蝕速率對溫度最敏感,溫度越高,腐蝕越快。具體步驟為:1、將裝有待腐蝕硅片的片架放入浸潤劑(FUJI FILM DRIWEL)中浸泡10—15S,上下晃動,浸潤劑(FUJI FILM DRIWEL)...
發布時間: 2016 - 06 - 27
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