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發布時間: 2017 - 12 - 06
在LED外延及芯片制造領域,濕法設備占據約40%以上的工藝,隨著工藝技術的不斷發展,濕法設備已經成為LED外延及芯片制造領域的關鍵設備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。南通華林科納CSE深入研究LED生產工藝,現已形成可滿足LED產業化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設備 設備名稱南通華林科納CSE-外延片清洗機設備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應用領域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術系統潔凈性技術均勻性技術晶圓片N2干燥技術模塊化系統集成技術自動傳輸及精確控制技術溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術主要技術特點系統結構緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據用戶要求提供個性化解決方案設備制造商南通華林科納半導體設備有限公司 www.zgcxlmw.com 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.zgcxlmw.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體行業相關清洗設備解決方案。
發布時間: 2017 - 12 - 06
旋轉式噴鍍臺結合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規格和特殊應用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統中采用了傾斜式旋轉噴鍍技術傾斜式旋轉噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉單元、導線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉噴鍍結構示意圖如下:從鍍制結構方式、鍍制工藝應用分析可以看出,采用傾斜式旋轉噴鍍有以下幾種優勢。一是這種結構方式易實現槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉運動使槽內電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結構方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產需求。傾斜旋轉噴鍍技術、工藝優勢斜式三角鍍槽結構本系統采用傾斜式三角形鍍槽結構,鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩定且不易積累氣泡的流場環境。通過進行相關模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結構,可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結構的另一優點可使電鍍液的用量減至最少程度。 南通華林科納CSE采用傾斜旋轉噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結構上的特點,該方法經實驗驗證具有:①結構簡單;②工藝參數控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉噴鍍系統,目前已批量生產并在工藝線上得到較好的應用,產品已通過技術定型鑒定和用戶驗收。實現的主要工藝指標:最大晶...
發布時間: 2016 - 06 - 22
雙腔甩干機1. 應用范圍:l 本機臺適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規格l 機臺內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
發布時間: 2016 - 03 - 07
枚葉式清洗機-華林科納CSE南通華林科納半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關信息可以關注華林科納CSE官網(www.hlkncas.com),現在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
發布時間: 2016 - 03 - 07
自動供酸系統(CDS)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-CDS自動供酸系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-CDS自動供酸系統設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統設備規格 1. 系統主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統;2. 操作模式: CDS 系統皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執行,兼具自動化與親和力。在自動模式情形...
發布時間: 2018 - 01 - 23
單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system南通華林科納CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領 域半導體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設備穩定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節約成本(藥液循環利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結構,占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關設備可以關注南通華林科納半導體官網,關注http://www.zgcxlmw.com ,400-8768-096,18913575037
發布時間: 2017 - 12 - 06
氫氟酸HF自動供液系統-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-氫氟酸供液系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式 設備名稱南通華林科納CSE-氫氟酸(HF)供液系統設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統設備規格 1. 系統主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統;2. 操作模式: CDS 系統皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執行,兼具自動化與親和力。在...
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3月21日,華林科納半導體與臺灣弘塑科技簽訂戰略合作協議。華林科納、弘塑科技、三菱電機、香港應用科技研究院、文治資本、上海交通大學微電子學院均派出代表出席并見證了簽約儀式。根據協議,雙方將本著“強強聯合、優勢互補、合作共贏”的原則,積極推進在半導體濕制程領域的設備研發、制造、售后服務支持等方面合作,促進共同發展。↑ 簽約儀式在簽約儀式中,雙方進行了友好交流。華林科納半導體作為國內濕制程設備領域的優質供應商,業務范圍涵蓋了濕法清洗、刻蝕系統、CDS系統、尾氣處理系統的四大系列數十種型號的產品,廣泛應用于大規模集成電路、電力電子器件、分立器件、光電子器件、MEMS等領域。弘塑科技股份有限公司作為臺灣半導體設備制造的領先品牌,此次與華林科納半導體簽約是雙方友好合作的起點,要借此契機從長遠性和戰略性的高度,深化合作領域,加大8寸及12寸單片旋轉清洗設備、電鍍設備等高端設備的新產品研發、生產與銷售。通過緊密和高效的合作,釋放1+12的增值效益,攜手探尋半導體設備領域的新發展。↑ 弘塑代表發言↑ 簽約儀式現場
發布時間: 2019 - 04 - 18
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新南威爾士大學(The University of New South Wales),澳大利亞一所世界頂尖級研究學府,簡稱UNSW,創立于1949年,其主校區位于新州首府悉尼。新南威爾士大學素有“南半球的麻省理工”之稱,其工程學院是澳大利亞規模最大的工程學院。據澳大利亞公布的最及影響力的百強工程師名單中,近四分之一畢業于新南威爾士大學。
發布時間: 2019 - 04 - 09
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清明節將至,公司舉辦了節前最后一期專業技術培訓會系列學習活動,我們邀請了華林科納配件合作伙伴劉禮達、尹衛衛先生,為公司同事們全面介紹了設備配件與耗材相關要點,包括PTFE、PFA等材料特性以及閥門配件的選型。參加培訓的同事們積極討論,表示為了能夠全面的熟悉設備的每一個環節,以后還應該系統的學習專業知識,做好筆記,把握細節品質。今年是華林科納樹立產品標桿形象的一年,節后還將會有更多的業內專家走進華林科納,展開相關領域的培訓與分享。
發布時間: 2019 - 04 - 09
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SEMICON 展會剛剛結束,華林科納的同仁們并沒有就此可以放松下來。我們邀請了超聲設備專家江捍忠先生,為第二期部門同事們提供了全新的超聲波技術課程。課程涵蓋了4個版塊:超聲波清洗定義及分類、超聲波空化作用、發生器技術、兆聲波清洗的原理。版塊一:超聲波清洗定義及分類在該版塊中,超聲設備專家江捍忠先生首先分享了工藝流程選擇,指出在不同的工藝流程中采用多道超聲波清洗,對高品位的磁性材料較為合適,能很好地保證后續的電鍍質量。當然,加工企業應根據具體磁性材料和自己的操作條件來選擇不同的清洗工藝流程。他提到聲波是疏密波,在稀疏區域實際壓強小于原來的靜壓強,在稠密區域實際壓強大于原來的靜壓強,聲壓的周期性變化可以控制電流的周期性變化。版塊二:超聲波空化作用清洗效果是隨著超聲波功率密度增加而提高的。但過高的功率密度會由于空化作用過份強烈而引起被清洗件表面的浸蝕(即所謂空化腐蝕),從而使被清洗件表面受到損傷。這種現象尤其對工件上的各種鍍層以及鋁合金件更為突出。版塊三:發生器技術超聲波清洗設備主要由超聲波發生器及清洗槽兩大部分組成。在被清洗件批量較大的情況下,還附有清洗液循環裝置;有時為了實現清洗過程自動化,還附有被清洗件傳送裝置。一般情況下,超聲波發生器和清洗槽是兩個結構上互相獨立的裝置,它們之間僅用一根電纜線連接起來,以傳送電功率。但也有的超聲波清洗設備是將發生器與清洗槽組合為一體的。版塊四:兆...
發布時間: 2019 - 04 - 01
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3月22日,為期3天的SEMICON China 2019上海電子展正式落下帷幕,展會最后一天,展臺內依舊人頭攢動,熱鬧非凡。眾多客商對華林科納的濕制程設備、閥門器件表示出濃厚的興趣,紛紛駐足觀看,交流研究。作為濕制程設備專業制造商,在展會期間,華林科納吸引了一波又一波的商客前來參觀,現場高漲的人氣無不在彰顯著華林科納的品牌實力。3月21日,華林科納在SEMICON China 2019 展會結束之后,在上海世紀皇冠假日酒店舉辦半導體制造企業沙龍,來自政府、行業協會、業內專家、企業代表、媒體代表近百位嘉賓參加本次會議。本次企業沙龍致力于推動半導體濕制程工藝領域的信息交流與合作,整合創新資源,探索行業管理和科技服務的新模式,進一步促進產業發展與技術進步。現場氣氛非常融洽。在會議現場,華林科納與弘塑科技達成戰略合作,雙方簽署了戰略合作框架協議,一致同意就科研項目、科研平臺、人才培養等方面實現技術和資源共享,實現互利共贏。非常感謝每一位光臨華林科納展臺的業界朋友!感恩有您,攜手共進!華林科納參展SEMICON CHINA 2019完美收官,期待明年與您再次相遇!
發布時間: 2019 - 04 - 01
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3月21日,華林科納在SEMICON China 2019 展會結束之后,在上海世紀皇冠假日酒店舉辦半導體制造企業沙龍,來自政府、行業協會、業內專家、企業代表、媒體代表近百位嘉賓參加本次會議。本次企業沙龍致力于推動半導體濕制程工藝領域的信息交流與合作,整合創新資源,探索行業管理和科技服務的新模式,進一步促進產業發展與技術進步。現場氣氛非常融洽。
發布時間: 2019 - 04 - 01
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3月20日,SEMICON China 2019中國半導體展開展第一天,華林科納展區一經亮相,便圈粉無數。現場快報,帶您一起去看看華林科納的新技術,新產品、新亮點!!感謝各位親愛的朋友們,第一天就快要把我們的展位擠爆了。大家對我們的濕制程設備、閥門等都非常感興趣,得到了新老客戶的贊譽。趕快來我們的展位  N5-5584 ,從上海新國際展覽中心3號門入口可直達5號館,超大超全的產品展示,恭候您的大駕。今年我們的準備的禮品都非常不錯哦,只要拉到最下掃碼關注我們,來展會現場出示公眾號即可得到,數量有限,要抓緊啦。
發布時間: 2019 - 04 - 01
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2019年3月20-22日SEMICON China 將在上海新國際博覽中心舉辦。25年來,SEMICON China伴隨著中國半導體產業的蓬勃發展而成為中國權威的半導體行業盛會之一。展會開始進入倒計時了!我們期待您的大駕光臨,在此奉上貼心的《參觀指南》。
發布時間: 2019 - 03 - 16
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3月5日下午,在華林科納南通生產基地會議室組織了2019年的第一場技術培訓,公司銷售部、技術部、生產部、資材部、采購部等部門悉數參加。華林科納超聲設備專家朱洪崗先生講課主講人華林科納超聲設備專家朱洪崗先生在本次培訓會上做了關于《超聲波設備原理》的主題培訓,通過超聲波清洗原理、清洗效果與特點、設備的基本構造、設備使用保養四個版塊展開培訓。認真的聽課參加培訓的同事們積極討論,針對超聲波核心技術在公司項目中的應用提出了自己的見解,現場氣氛熱烈。仔細的記筆記通過此次培訓,促使各部門同事更加深入了解超聲波清洗的應用和方案選擇,有利于部門相互協作,幫助客戶更加精準地選擇和使用華林科納的產品。培訓受到了公司各部門的歡迎和好評,后續的培訓將定期舉行。
發布時間: 2019 - 03 - 07
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SEMICON China 2019 展會將在上海新國際博覽中心舉行。在展覽期間,華林科納 N5-5584 展位將會展示濕制程領域的設備解決方案,并將于 3月21日 舉辦客戶答謝酒會。感謝您一直以來對華林科納的支持與厚愛,真誠期待您的光臨,共創我們美好未來。—— 華林集團
發布時間: 2019 - 03 - 05
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